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2024北京國(guó)際光刻設(shè)備及光掩膜技術(shù)展覽會(huì)

Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024

>>基本信息

時(shí)間：2024年7月24-26日

地點(diǎn)：北京國(guó)家會(huì)議中心

>>展會(huì)簡(jiǎn)介

     微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動(dòng)力，21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來(lái),在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。

隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動(dòng)芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無(wú)法滿足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進(jìn)的大視場(chǎng)、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備�！�2024北京國(guó)際光刻設(shè)備及光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)”將于7月24-26日在北京國(guó)家會(huì)議中心隆重舉辦，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！  

>>展會(huì)亮點(diǎn)

收集最新的高質(zhì)量銷售資訊，結(jié)識(shí)高質(zhì)量買家并達(dá)成銷售交易。

了解未來(lái)生產(chǎn)需求發(fā)展全球戰(zhàn)略。

與全國(guó)代理、經(jīng)銷商構(gòu)建銷售網(wǎng)絡(luò)。

通過(guò)與各地生產(chǎn)商和買家的合作來(lái)發(fā)掘新的商業(yè)機(jī)會(huì)。

加強(qiáng)公司品牌建設(shè)，提高公司的行業(yè)知名度。

獲得關(guān)于最新市場(chǎng)趨勢(shì)、技術(shù)創(chuàng)新、行業(yè)最新發(fā)展動(dòng)態(tài)以及的相關(guān)行業(yè)資訊。

>>為何參展

35家合作機(jī)構(gòu)組團(tuán)參觀

形式多樣的配套會(huì)議及活動(dòng)，涵蓋組團(tuán)參觀、論壇、訪談

全方位海內(nèi)外渠道營(yíng)銷，線上與線下共同造勢(shì)

超過(guò)300家行業(yè)媒體，提供全天候，一站式營(yíng)銷解決方案

穩(wěn)固老客戶，開(kāi)拓新市場(chǎng)，發(fā)現(xiàn)新機(jī)遇

>>觀眾邀請(qǐng)

邀請(qǐng)全國(guó)、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國(guó)防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽(yáng)能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會(huì)參觀、洽談。

>>日程安排

報(bào)到布展：2024年07月22-23日 AM8:30-PM19:30

展出時(shí)間：2024年07月24日 AM9:30-PM16:45

2024年07月25日 AM9:30-PM16:45

2024年07月26日 AM9:30-PM16:45

>>參展范圍

◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；

◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無(wú)掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無(wú)機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；

◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測(cè)試等；

>>聯(lián)系我們

聯(lián)系人：李先生

電 話：136 3660 4883

咨詢QQ/微信：537402178

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